Dry etching for microelectronics.

Saved in:
Powell, R. A., (editor)
Amsterdam : North Holland, 1984.
XI, 299 S.
englisch
9780444869050
0444869050
Materials processing ; 4.
dry etching : microelectronics
LEADER 01009cam a2200289 n 4500
001 115285
005 20020701144700.0
008 r1984
020 |a 0444869050 
035 |a (Sirsi) a102809 
084 0 |a FGKJ - Plasma processing, etching  |2 ZB 
084 0 |a FGM - Microelectronic technology  |2 ZB 
084 1 |a FGK - Dünnfilmtechnologie, Epitaxie  |2 LS 
245 0 0 |a Dry etching for microelectronics. 
260 |a Amsterdam :   |b North Holland,   |c 1984. 
300 |a XI, 299 S. 
490 0 |a Materials processing ;   |v 4. 
500 |a englisch 
596 |a 1 90 
650 4 |a etching 
653 |a dry etching : microelectronics 
700 1 |a Powell, R. A.,   |e Hrsg. 
900 |a S 004957-0004'01' 
900 |a FGK 097 
908 |a Monographie, Sammelwerk 
949 |a FGK 097  |w LC  |c 1  |i 1086004694  |d 2/7/1998  |e 16/4/1998  |l STACKS  |m ZB  |n 2  |r Y  |s Y  |t ZBB  |u 25/3/2009  |x ZB-F  |1 PRINT 
949 |a S 004957-0004'01'  |w LC  |c 1  |i 1087002976  |d 1/7/2002  |l STACKS  |m IEK-5  |r Y  |s Y  |t INSTB  |u 25/3/2009  |x INST-F  |1 PRINT