Analyse der Defektursachen und der Genauigkeit der Strukturübertragung bei der Röntgentiefenlithographie mit Synchrotronstrahlung.

origin of defects and accuracy of structure reproduction in deep- etch x-ray lithography using synchrotron radiation.

Saved in:
Mohr, J.
Ehrfeld, W. / Muenchmeyer, D.
Karlsruhe : Kernforschungszentrum Karlsruhe, 1988.
96 S.
deutsch

ZB
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