Grundlagen für die röntgentiefenlithographische Herstellung eines planaren Wellenlängen Demultiplexers mit selbstfokussierendem Reflexionsbeugungsgitter.

fundamentals for the fabrication of a planar wavelength division demultiplexer with a selffocusing reflection grating by deep etch synchrotron radiation lithography.

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Anderer, B.
Ehrfeld, W. / Mohr, J.
Book
Karlsruhe : Kernforschungszentrum Karlsruhe, 1990.
95 S.
deutsch
wavelength demultiplexer for fiber optics communication
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