This title appears in the Scientific Report :
2005
Measurement of overlay accuracy of E-Beam generated patterns for the fabrication of vertical gate all-around transostores
Measurement of overlay accuracy of E-Beam generated patterns for the fabrication of vertical gate all-around transostores
Saved in:
Personal Name(s): | Moers, J. |
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von der Hart, A. / Lüth, H. | |
Contributing Institute: |
Institut für Halbleiterschichten und Bauelemente; ISG-1 Center of Nanoelectronic Systems for Information Technology; CNI |
Published in: | Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, 40 (2005) S. 279 |
Imprint: |
Bad Honnef
DPG
2005
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Physical Description: |
279 |
Document Type: |
Journal Article |
Research Program: |
Materialien, Prozesse und Bauelemente für die Mikro- und Nanoelektronik |
Series Title: |
Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft (Reihe 06)
40 |
Publikationsportal JuSER |
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