Zum Impedanzverhalten der stationären Hochfrequenzringentladung
Zum Impedanzverhalten der stationären Hochfrequenzringentladung
Für die zweckmäßige Dimensionierung der Hochfrequenzanlage zur Erzeugung eines induktiv erregten Hochfrequenzplasmas muß die Impedanz des Plasmas als Quotient aus der elektrischen Feldstärke E und der magnetischen Feldstärke H am Rande des Entladungsgefäßes bekannt sein. Der Zusammenhang zwischen E...
| Personal Name(s): | Geißler, E. (Corresponding author) |
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| Contributing Institute: |
Publikationen vor 2000; PRE-2000; Retrocat |
| Imprint: |
Jülich
Kernforschungsanlage Jülich, Verlag
1967
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| Physical Description: |
7 p. |
| Document Type: |
Report Book |
| Research Program: |
Addenda |
| Series Title: |
Berichte der Kernforschungsanlage Jülich
481 |
| Link: |
OpenAccess OpenAccess |
| Publikationsportal JuSER |
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Für die zweckmäßige Dimensionierung der Hochfrequenzanlage zur Erzeugung eines induktiv erregten Hochfrequenzplasmas muß die Impedanz des Plasmas als Quotient aus der elektrischen Feldstärke E und der magnetischen Feldstärke H am Rande des Entladungsgefäßes bekannt sein. Der Zusammenhang zwischen E und Hwird experimentell untersucht. Im periodisch schwingenden, ungedämpften Magnetfeld (f = 7,2 MHz, B < 35$\Gamma$) wird eine stationäre Ringentladung in Wasserstoff (0,01 Torr $\le$ p $\le$ 0,5 Torr) erregt. Bei merklichem Skineffekt wird in einem größeren Bereich des induzierenden Magnetfeldes die Beziehung Ê = A$\hat{H}$ + B, $\phi$ = C gefunden. Die Konstanten A,B,C hängen bei festgehaltenen Gefäßdimensionen nur vom Druck ab. |