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Atomlagenabscheidung von Hafniumoxid /
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Metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) ferroelektrischer Dünnschichten : Herstellung und Charakterisierung /
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Metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) ferroelektrischer Dünnschichten : Herstellung und Charakterisierung [E-Book] /
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Metallorganisch chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) von oxidisch hoch-e Schichten [E-Book] /
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5
Entwicklung und Aufbau einer neuartigen MOCVD-Anlage zum Wachstum ferroelektrischer Dünnschichten [E-Book] /
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6
Untersuchung des selbstorganisierenden Wachstums von Ge-C-Si/Si-Strukturen im Hinblick auf nulldimensionale Effekte [E-Book] /
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7
Untersuchung der Inselbildung im System SiGe/Si [E-Book] /
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8
Optimierung der Niedrigdruckgasphasenepitaxie von Al(x)Ga(1-x)As/GaAs mit N2 als Trägergas [E-Book] /
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9
Verwendbarkeit von N2 als Trägergas bei der Niedrigdruck- Gasphasenepitaxie von GaAs and Al(x)Ga(1-x)As [E-Book] /
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10
Abscheidung von amorphem Silizium (a-Si:H) aus an einem heißen Blech zersetztem Silan [E-Book] /
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11
Herstellung binärer Eisschichten durch Kondensation aus der Gasphase [E-Book] /
Biel, E.
1988
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12
Beschichtungen für Hochleistungsbauteile : Symposium : Hagen, 06.11.1986-07.11.1986
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1986
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13
Epitaxie von Metallaufdampfschichten: Zusammenhang zwischen der Epitaxie und den physikalischen Eigenschaften von Wismutschichten und Eisenschichten /
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Reimer, L.
1967
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