1
Advances in thin film technology : Sputtering and etching : Materials Research Corporation : sputtering schools. 34 and 35 : Roma, Santa-Barbara, CA, 06.84 ; 11.84.
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2
Applications of plasma processes to VLSI technology /
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3
Arc plasma technology in materials science /
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4
Atomic layer processing : semiconductor dry etching technology /
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5
Ätzpraxis für Halbleiter /
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6
Auflösung von Kristallen : Theorie und technische Anwendung /
Book
7
Beschichtungen für Hochleistungsbauteile : Symposium : Hagen, 06.11.1986-07.11.1986
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8
Bewertung von Plasmareinigungsverfahren als Ergänzung zur Nasschemie : Wuppertal, 18.05.94.
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9
Characterization of plasma enhanced cvd processes: symposium: proceedings : Boston, MA, 27.11.89-28.11.89.
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10
Colloquium on plasma processing for semiconductors, gas discharge and surface aspects : London, 11.10.1984-11.10.1984.
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11
Columnar structured Thermal Barrier Coatings deposited by axial Suspension Plasma Spraying /
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12
Columnar structured Thermal Barrier Coatings deposited by axial Suspension Plasma Spraying [E-Book] /
13
Dry etching for microelectronics.
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14
Der Einfluss der Versetzungsstruktur auf die Kristallaufloesung /
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15
Elektrochemische Leiterplattenätzung mit geschlossenem Elektrolytkreislauf.
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Elektrolytisches Ätzverfahren zur Beobachtung der räumlichen Anordnung von Versetzungen an der Oberfläche von Siliciumeisen [E-Book] /
17
Etching compositions and processes.
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18
Etching for pattern definition: proceedings of the symposium : Electrochemical Society: spring meeting. 1976 : Washington, DC, 02.05.1976-07.05.1976.
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19
Etching of crystals : theory, experiment, and application /
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20
Etching of III-V semiconductors : an electrochemical approach /
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