Silizide der Übergangsmetalle als Diffusionsquellen zur Erzeugung flacher Dotierungsgebiete in der VLSI-Technologie.
transition metal silicides as diffusion sources in VLSI technology
Saved in:
Personal Name(s): | Probst, V. |
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Imprint: |
München :
Technische Universität München,
1991.
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Physical Description: |
V, 159 S. |
Note: |
deutsch |
Subject (ZB): | |
Classification: |
ZB | |
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Open Stacks Call number: B 068847'01' Barcode: 1091104222 Available |