Ein anisotroper Plasmaätzprozess in Silizium für die Mikromechanik.
plasma etching in silicon for micromechanical devices
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Personal Name(s): | Hoffmann, Rainer. |
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Imprint: |
Hamburg :
Universität Hamburg,
1995.
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Physical Description: |
174 S. |
Note: |
deutsch |
Subject (ZB): | |
Classification: |
ZB | |
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Open Stacks Call number: B 076215'01' Barcode: 1096100474 Available |