This title appears in the Scientific Report :
2011
Einführung und Optimierung eines Trockenätzprozesses (RIE-ICP) zur Herstellung von SiO2-Photomasken
Einführung und Optimierung eines Trockenätzprozesses (RIE-ICP) zur Herstellung von SiO2-Photomasken
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Personal Name(s): | Oidtmann, C. |
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Contributing Institute: |
Bioelektronik; PGI-8 JARA-FIT; JARA-FIT |
Imprint: |
2011
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Dissertation Note: |
Hochschule Niederrhein, Krefeld, Bachelorarbeit, 2011 |
Document Type: |
Bachelor Thesis |
Research Program: |
Grundlagen für zukünftige Informationstechnologien |
Subject (ZB): | |
Publikationsportal JuSER |
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