This title appears in the Scientific Report :
2001
Nanostrukturierung und optische Lithographie mit DUV-Photoresists bei der Herstellung vertikaler MOSFETs
Nanostrukturierung und optische Lithographie mit DUV-Photoresists bei der Herstellung vertikaler MOSFETs
Saved in:
Personal Name(s): | Trellenkamp, S. |
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Moers, J. / Flücken, R. / van der Hart, A. / Marso, M. / Kordos, P. / Lüth, H. | |
Contributing Institute: |
Institut für Bio- und Chemosensoren; ISG-2 Institut für Halbleiterschichten und Bauelemente; ISG-1 |
Published in: |
DPG-Frühjahrstagung |
Imprint: |
2001
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Conference: | Düsseldorf 2001-03-25 |
Document Type: |
Conference Presentation |
Research Program: |
Halbleiterbauelemente und Analytik Ionen- und Lithographietechnik Halbleiterschichtsysteme und Mesoskopische Strukturen |
Publikationsportal JuSER |
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