1
Chemical vapor deposition of tungsten and tungsten silicides for VLSI/ULSI applications /
Book
...FGMH - Metallization, physics of microelectronics...
2
Silizide der Übergangsmetalle als Diffusionsquellen zur Erzeugung flacher Dotierungsgebiete in der VLSI-Technologie.
Book
Probst, V.
1991
...FGMH - Metallization, physics of microelectronics...