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Large-area graphene synthesized by chemical vapor deposition for high-performance, flexible electronics [E-Book] /
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Atomlagenabscheidung von Hafniumoxid /
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Metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) ferroelektrischer Dünnschichten : Herstellung und Charakterisierung /
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Metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) ferroelektrischer Dünnschichten : Herstellung und Charakterisierung [E-Book] /
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Metallorganisch chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) von oxidisch hoch-e Schichten [E-Book] /
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Silver transport in CVD silicon carbide /
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Entwicklung und Aufbau einer neuartigen MOCVD-Anlage zum Wachstum ferroelektrischer Dünnschichten [E-Book] /
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Untersuchung des selbstorganisierenden Wachstums von Ge-C-Si/Si-Strukturen im Hinblick auf nulldimensionale Effekte [E-Book] /
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Reaction and transport processes in OMCVD : selective and group III-nitride growth /
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Untersuchung der Inselbildung im System SiGe/Si [E-Book] /
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Electrochemical vapour deposition of SOFC interconnection materials.
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Optimierung der Niedrigdruckgasphasenepitaxie von Al(x)Ga(1-x)As/GaAs mit N2 als Trägergas [E-Book] /
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Verwendbarkeit von N2 als Trägergas bei der Niedrigdruck- Gasphasenepitaxie von GaAs and Al(x)Ga(1-x)As [E-Book] /
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Chemical and electrochemical vapour deposition of zirconia yttria solid solution in porous ceramic media.
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Selective low pressure chemical vapor deposition of tasi2 on silicon.
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Abscheidung von amorphem Silizium (a-Si:H) aus an einem heißen Blech zersetztem Silan [E-Book] /
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Crystal habit of CVD grown silicon in relation to adsorption processes.
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Einfluss von Grenzflächenrauhigkeit, Ordnungseffekten und Dotierungen auf die optischen Eigenschaften von INP- basierten MOCVD- Heterostrukturen.
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Oertel, D.
1987
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Influence of substrate reactivity on chemical vapour deposition processes /
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